探討無塵（chén）車間淨化對濕度的控（kòng）製

濕度控（kòng）製是無塵車間生產必需具備的重要條件，相（xiàng）對濕度（dù）是無塵車間、潔淨室運作過程中一個（gè）常用的（de）環境控製條件。半導體無塵（chén）車間、潔淨室中的典型的（de）相對濕度（dù）的目（mù）標（biāo）值（zhí）大約控製在30至50%的範（fàn）圍內，允許誤差在±1%的狹窄的範（fàn）圍內，例（lì）如光刻區或者在（zài）遠紫外線處理(DUV)區甚至更小而在其他地方則可以放鬆（sōng）到±5%的範圍內。
近年，在這些規定範圍中保持（chí）處理空氣過程，相對濕度有一係列可能使潔淨室總體表現下降的因素，其中（zhōng）包括：
1、細（xì）菌生（shēng）長；
2、工作人員（yuán）感到室溫舒適的（de）範圍；
3、出現靜電荷；
4、金屬腐蝕；
5、水（shuǐ）汽（qì）冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸（xī）水性。
細菌和（hé）其他生物汙染(黴菌，病毒（dú），真菌，蟎（mǎn）蟲)在相對濕度超過60%的環境中可以活躍地繁殖（zhí）。一些（xiē）菌群在相對濕（shī）度超過30%時就可（kě）以增長。在相對濕（shī）度處於40%至60%的範圍之間時，可以使細菌的影響以及呼（hū）吸道感染降至zui低（dī）。相對濕度在40%至60%的範圍（wéi）同樣也是人類感覺（jiào）舒適的適度範圍。濕度過高會使（shǐ）人覺得氣悶，而濕度低於30%則會讓人感覺幹燥，皮膚破裂，呼吸道不適以及情感上（shàng）的不快。
高濕度實際上減小了無塵（chén）車（chē）間、潔淨室表麵（miàn）的靜電荷積累（lèi）──這是（shì）大家希望的結果。較低（dī）的（de）濕度比較適合電荷的積累並成為潛在的具有破壞性的靜電釋（shì）放源。當相對（duì）濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消（xiāo）散，但是（shì）當相對（duì）濕度小（xiǎo）於（yú）30%時，它們可以（yǐ）在絕緣體或者未（wèi）接地的表麵上持續存在（zài）很長一段時間。相對濕度在35%到40%之間可以作為一（yī）個令人滿意（yì）的折中，半導體（tǐ）無塵車間、潔淨室（shì）一般都使用額外的控製裝置以限製靜電荷的積累。很多化（huà）學反應的速度（dù），包（bāo）括腐蝕過程，將隨著相對濕度（dù）的增高而加快。所有暴露在（zài）無塵車間、潔淨室周圍空氣中的（de）表麵都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當這些（xiē）表麵是由可以與水反應的薄金屬塗層（céng）組成時，高濕度可以使反應加速。幸運的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護型的氧化物，並阻止進（jìn）一步的氧化反應;但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護能力的，因此（cǐ），在高濕度（dù）的環境中，銅製表麵更容易受到腐蝕。在相對濕度較（jiào）高的環境中，濃縮水形的毛細管（guǎn）力在（zài）顆粒和表麵之間形成（chéng）了連接鍵，可（kě）以增加顆粒與矽質表麵的黏附力。相對濕度小於50%時並不重要（yào），但當相對濕（shī）度在70%左右時，就成為顆粒之間黏附的主要力量。
到目前為止，在半導體無塵車間、潔淨室中（zhōng）zui迫切（qiē）需要適當控製的是光刻膠的敏感性（xìng）。由於光刻膠對相對濕度極為敏感的特性（xìng），它對相對（duì）濕度的控製範圍的要求是（shì）zui嚴格的水準。
實際上，相對濕度和溫度對於光刻膠穩定性（xìng）以及（jí）的尺寸控（kòng）製都（dōu）是很關鍵的。甚至是在恒（héng）溫條（tiáo）件下，光刻膠的粘性將隨著相（xiàng）對濕（shī）度的上升而迅速下降。當（dāng）然，改變（biàn）粘性，就會改（gǎi）變由固定組分塗層形（xíng）成（chéng）的（de）保護膜的厚度。相對濕度的3%的變異將使保護厚（hòu）度改變59.2A。
此（cǐ）外，在高的（de）相對濕度環境下，由於水分的（de）吸收，使烘烤（kǎo）循環後光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對濕度的負麵影響。較低的相對濕度（dù）(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改（gǎi）性劑，如六甲基（jī）二矽氮烷(HMDS)。