
三區不(bú)均勻(yún)分(fèn)布模型如下圖所示,即分為主流區、渦流區和回風口區。其出發(fā)點是:
1、在主流區內(nèi),由於工作區以上有一定的風速(sù),塵源Ga是不(bú)可(kě)能逆著氣流不斷的均勻的把塵粒分散到全部主流區去的。因為塵粒靠擴散、沉降、機械力等作用分(fèn)散到全室的可(kě)能性較小,主(zhǔ)要是隨著氣流運(yùn)動而(ér)分布,所以說塵粒在室內的(de)“擴散(sàn)"不如說是“分布"更合適,這就是用“均勻(yún)分布"、“不均勻分(fèn)布",而不用“均勻擴散"、“不均勻擴散"的原(yuán)因,而且用“擴散"一詞容易(yì)理解為單(dān)純的分子擴散運動。

2、主流區內塵源散發的(de)塵粒,一部分隨著渦流由下而上再由上而下較均勻的進入送風氣流的全邊界層內(nèi)。由簡單的實驗(yàn)可以看出,在一股相當寬的(de)送風氣流(liú)中,如果有一個塵源,則其橫向分布至全氣流截麵是(shì)不太可能的,當氣流速度為0.5m/s時(shí),塵源後的擴張角才5〫~6〫;在講下限風速時已經知道,送(sòng)風速度為0.25m/s對控製2m/s左右噴發速度的汙染(rǎn)的橫(héng)向散(sàn)布已足夠了,噴發速度很小的汙染,逆著氣流散布就更不可能。